半导体芯片生产线废气处理工艺
半导体芯片生产线废气处理，按照其废气处理工艺分为：酸性废气处理（SEX）、碱性废气处理(AEX)、有机废气处理(VEX)和一般排气(GEX)等。
一、半导体芯片生产线酸碱性废气处理工艺工作原理：
1、立式废气洗涤塔工作原理为气液两相逆流接触；含酸性或碱性废气由塔下部进口进入塔内向上运动，通过单层或多层填料，废（尾）气与液相充分接触后吸收或中和，干净的气体经过上层的除雾层排出，从而达到吸收和净化效果；
2、卧式废气洗涤塔的工作原理为气液两相交叉流接触，酸碱废（尾）气通过填料层段时与液相充分接触后吸收或中和，从而达到吸收或净化的效果。
二、主要设备：
1、洗涤塔设备样式：洗涤塔的结构型式分为立式和卧式。
2、洗涤塔设备组成：包括塔体、填料层、除雾层、循环水管路及循环水箱等。
3、洗涤塔设备材料：废气处理设备以FRP为主要材料生产，填料采用PP材质的麦勒环。
三、工艺流程：酸/碱性废气收集→酸/碱式洗涤塔→离心风机→烟囱（达标排放）酸碱废气经过收集管道集中收集后按照各自的系统进入相应的化学洗涤塔进行喷淋处理，金泉自主设计的化学洗涤塔通过内部的喷淋系统、循环水系统、填料过滤系统、除雾系统、自动加药系统、自动补排水等系统对进入化学洗涤塔的废气进行化学吸收、除雾，经过处理后的废气达标排放。
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